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• 010 __ |a 978-7-5170-7439-7 |d CNY57.00

• 100 __ |a 20190412d2019 em y0chiy50 ea

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• 102 __ |a CN |b 110000

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• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能 |A ci kong jian she zhi bei dan hua tong bo mo de jie gou yu xing neng |f 肖剑荣著

• 210 __ |a 北京 |c 中国水利水电出版社 |d 2019.04

• 215 __ |a 173页 |c 图 |d 24cm

• 320 __ |a 有书目 (第97-173页)

• 330 __ |a 磁控溅射是一种通用、成熟的薄膜制备工艺技术, 其制备工艺可调剂参数较多, 通过精细控制能够实现对薄膜结构的有效调控。本书研究了薄膜的工艺参数、薄膜结构与性能等之间的内在关系, 探讨了薄膜的电子输运、光学带隙、热稳定性的有关物理量的变化机制。

• 606 0_ |a 铜 |A tong |x 金属薄膜 |x 氮化处理 |x 结构分析

• 606 0_ |a 铜 |A tong |x 金属薄膜 |x 性能分析

• 690 __ |a TF811 |v 5

• 701 _0 |a 肖剑荣 |A xiao jian rong |4 著

• 801 _0 |a CN |b HNZX |c 20201012

• 905 __ |a SYXY |d TF811/5