机读格式显示(MARC)

• 000 01771nam0 2200409 450

• 001 0000220844

• 005 20150120092725.0

• 010 __ |a 978-7-03-040034-5 |d CNY58.00

• 100 __ |a 20140513d2014 em y0chiy50 ea

• 101 1_ |a chi |c eng

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a a z 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计 |A na mi ji CMOS chao da gui mo ji cheng dian lu ke zhi zao xing she ji |d Nanoscale CMOS VLSI circuits design for manufacturability |f (美) Sandip Kundu, (印) Aswin Sreedhar著 |g 王昱阳, 谢文遨译 |z eng

• 210 __ |a 北京 |c 科学出版社 |d 2014

• 215 __ |a 261页 |c 图 |d 24cm

• 305 __ |a 麦格劳-希尔（亚洲）教育出版出版公司授权出版

• 306 __ |a 麦格劳-希尔（亚洲）教育出版出版公司和中国科技出版传媒股份有限公司合作出版

• 312 __ |a 英文原名：Nanoscale CMOS VLSI circuits design for manufacturability

• 330 __ |a 本书内容包括：CMOSVLSI电路设计的技术趋势；半导体制造技术；光刻技术；工艺和器件的扰动和缺陷分析与建模；面向可制造性的物理设计技术；测量、制造缺陷和缺陷提取；缺陷影响的建模和合格率提高技术；物理设计和可靠性；DFM工具和DFM方法等。

• 510 1_ |a Nanoscale CMOS VLSI circuits design for manufacturability |z eng

• 606 0_ |a 纳米材料 |x CMOS电路 |x 超大规模集成电路 |x 电路设计 |j 教材

• 606 0_ |a 纳米材料

• 606 0_ |a CMOS电路

• 606 0_ |a 超大规模集成电路

• 606 0_ |a 电路设计

• 690 __ |a TN432.02 |v 5

• 701 _0 |c (美) |a 坤社 |A kun she |g (Kundu, Sandip) |4 著

• 701 _0 |c (印) |a 斯里达尔 |A si li da er |g (Sreedhar, Aswin) |4 著

• 702 _0 |a 王昱阳 |A wang yu yang |4 译

• 702 _0 |a 谢文遨 |A xie wen ao |4 译

• 801 _0 |a CN |b BJSZM |c 20141020

• 801 _2 |a CN |b LIY |c 20150120

• 905 __ |a SYXY |d TN432.02/2

• 907 __ |b |a SYXY |y 2014 |h |d TN432.02 |r CNY58.00 |e 2

• 908 __ |a 0101187367

• 908 __ |a 0000220844