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• 010 __ |a 978-7-118-09405-3 |d CNY68.00

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• 200 1_ |a 稀土高K栅介质材料 |A xi tu gao K zha jie zhi cai liao |f 冀婷著

• 210 __ |a 北京 |c 国防工业出版社 |d 2014

• 215 __ |a 167页 |c 图 |d 21cm

• 304 __ |a 封面题责任者还有: 徐闰, 朱燕艳, 方泽波

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书主要介绍稀土高K栅介质材料Er203、Tm203薄膜的生长、结构及其特性，重点介绍了利用分子束外延方法获得超薄高K氧化物薄膜的方法，并运用多种手段对薄膜的生长过程、结构、电学特性及能带排列等进行了研究。本书较为全面、系统地介绍了Er203、Tm2 03作为高K栅介质候选材料的制备及相关物理性质。

• 606 0_ |a 稀土金属 |A xi tu jin shu |x 棚介质 |x 介质材料

• 690 __ |a TG146.4 |v 5

• 701 _0 |a 冀婷 |A ji ting |4 著

• 701 _0 |a 徐闰 |A xu run |4 著

• 701 _0 |a 朱燕艳 |A zhu yan yan |4 著

• 701 _0 |a 方泽波 |A fang ze bo |4 著

• 801 _0 |a CN |b HD |c 20140720

• 801 _2 |a CN |b LIY |c 20180105

• 801 _2 |a CN |b LIY |c 20180313

• 905 __ |a SYXY |d TG146.4/11

• 907 __ |a SYXY |y 2016 |h |d TG146.4 |r CNY68.00 |e 11

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