机读格式显示(MARC)

• 000 01150nam0 2200325 450

• 001 0000218255

• 005 20140926090753.0

• 010 __ |a 978-7-5024-6227-7 |d CNY26.00

• 100 __ |a 20130713d2013 em y0chiy0110 ea

• 101 0_ |a chi

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a y z 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 多弧离子镀沉积过程的计算机模拟 |A duo hu li zi du chen ji guo cheng de ji suan ji mo ni |f 赵时璐著

• 210 __ |a 北京 |c 冶金工业出版社 |d 2013

• 215 __ |a 232页 |d 21cm

• 330 __ |a 本书系统介绍了多弧离子镀沉积过程的计算机模拟。全书共分13章，主要内容包括：绪论；真空镀膜技术的介绍；多弧离子镀沉积过程模拟的理论基础；多弧离子镀物理过程的分析；计算机模拟技术；数学模型的建立；程序的编制；模拟的结果；模拟结果的讨论与验证；6个模块的主要程序代码等。

• 606 0_ |a 离子镀 |x 镀膜 |x 沉积 |x 计算机模拟

• 606 0_ |a 离子镀

• 606 0_ |a 镀膜

• 606 0_ |a 沉积

• 606 0_ |a 计算机模拟

• 690 __ |a TG174.4 |v 4

• 701 _0 |a 赵时璐 |A zhao shi lu |4 著

• 801 _0 |a CN |b HNXHSD |c 20140623

• 801 _2 |a CN |b LIY |c 20140926

• 905 __ |a SYXY |d TG174.4/3

• 907 __ |d TG174.4-39 |a SYXY |y 2011 |h |r CNY26.00 |e 3

• 908 __ |a 0101184754

• 908 __ |a 0000218255