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- 000 01099nam0 2200301 450
- 010 __ |a 978-7-302-36027-8 |d CNY69.00
- 100 __ |a 20140812d2014 em y0chiy50 ea
- 200 1_ |a 纳米集成电路制造工艺 |b 专著 |d Nanoscale integrated circuits - the manufacturing process |f 张汝京等编著 |z eng |9 na mi ji cheng dian lu zhi zao gong yi
- 210 __ |a 北京 |c 清华大学出版社 |d 2014
- 215 __ |a 433页 |c 图 |d 26cm
- 330 __ |a 本书共分19章,涵盖先进集成电路工艺的发展史,集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化,器件参数与工艺相关性等项目和课题。
- 510 1_ |a Nanoscale integrated circuits - the manufacturing process |z eng
- 701 _0 |a 张汝京 |4 编著 |9 zhang ru jing
- 801 _2 |a CN |b LIY |c 20141218
- 905 __ |a SYXY |d TN405/2
- 907 __ |a SYXY |y 2014 |h |d TN405 |r CNY69.00 |e 2