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• 010 __ |a 978-7-122-26284-4 |d CNY35.00

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• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 集成电路制造技术 |A Ji Cheng Dian Lu Zhi Zao Ji Shu |f 杜中一著

• 210 __ |a 北京 |c 化学工业出版社 |d 2016

• 215 __ |a 172页 |c 图 |d 24cm

• 320 __ |a 有书目 (第172页)

• 330 __ |a 一书全面系统地介绍了集成电路制造技术，内容包括：集成电路制造概述、多晶半导体的制备、单晶半导体的制备、晶圆制备、薄膜制备、金属有机物化学气相沉积、光刻、刻蚀及掺杂。本书简要介绍了集成电路制造的基本理论基础，系统介绍了多晶半导体、单晶半导体与晶圆的制备，详细介绍了薄膜制备、光刻与刻蚀及掺杂等工艺。

• 606 0_ |a 集成电路工艺 |A Ji Cheng Dian Lu Gong Yi

• 690 __ |a TN405 |v 5

• 701 _0 |a 杜中一 |A Du Zhongyi |4 著

• 801 _0 |a CN |b HD |c 20160512

• 801 _2 |a CN |b LIY |c 20171115

• 905 __ |a SYXY |d TN405/3

• 907 __ |a SYXY |y 2015 |h |d TN405 |r CNY35.00 |e 3

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