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• 200 1_ |a 流体辅助微纳抛光原理与技术 |A liu ti fu zhu wei na pao guang yuan li yu ji shu |f 程灏波著

• 210 __ |a 北京 |c 科学出版社 |d 2014

• 215 __ |a 246页 |c 图 |d 24cm

• 330 __ |a 本书详细阐述了适用于精密光学元件制造的流体辅助微纳抛光原理与技术，针对于每一种工艺方法进行了全方位的描述，涉及起源与发展、原理、优缺点、具体的加工设备以及相关的工艺。全书分为9章，分别介绍了磁介质辅助加工技术，以及磁流变、电流变、气射流、水射流、磁射流、浮法等抛光技术。

• 606 0_ |a 纳米技术 |x 应用 |x 流体 |x 抛光

• 606 0_ |a 纳米技术

• 606 0_ |a 流体

• 606 0_ |a 抛光

• 690 __ |a TG580.692 |v 5

• 701 _0 |a 程灏波 |A cheng hao bo |4 著

• 801 _0 |a CN |b BJSZM |c 20141020

• 801 _2 |a CN |b LIY |c 20150119

• 905 __ |a SYXY |d TG580.692/2

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