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- 题名/责任者:
- 半导体制造工艺基础/(美)施敏,(美)梅凯瑞著 陈军宁,柯导明,孟坚译
- 出版发行项:
- 合肥:安徽大学出版社,2007
- ISBN及定价:
- 978-7-81110-292-5/CNY23.00
- 载体形态项:
- 284页;26cm
- 个人责任者:
- (美) 施敏 (Sze, S.M. 1936~) 著
- 个人责任者:
- (美) 梅凯瑞 (May, Gary S.) 著
- 个人次要责任者:
- 陈军宁 (1953~) 译
- 个人次要责任者:
- 柯导明 (1954~) 译
- 个人次要责任者:
- 孟坚 (1969~) 译
- 学科主题:
- 半导体工艺
- 中图法分类号:
- TN305
- 提要文摘附注:
- 本书介绍了从晶体生长到集成器件和电路的完整的半导体制造技术,其中包括制造流程中主要步骤的理论和实践经验。第一章简要回顾了半导体器件和关键技术的发展历史,并介绍了基本的制造步骤。第二章涉及晶体生长技术。第三章介绍硅的氧化技术。第四章和第五章分别讨论了光刻和刻蚀技术。第六章和第七章介绍半导体掺杂的主要技术;扩散法和离子注入法。第八章涉及一些相对独立的工艺步骤。第九章通过介绍晶体工艺技术、集成器件和微机电系统加工等工艺流程,将各个独立的工艺步骤有机地整合在一起。第十章介绍集成电路制造流程中高层次的一些关键问题。
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索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
TN305/15 | MJ078294 | B102密集书库(七里坪) QB078294 | 可借 | B102密集书库(七里坪) |
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