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MARC状态:已编 文献类型:中文图书 浏览次数:5

题名/责任者:
摄影曝光入门与提高/(美) 杰夫·雷维尔著 张婷译
版本说明:
第2版
出版发行项:
北京:人民邮电出版社,2014
ISBN及定价:
978-7-115-36346-6/CNY59.00
载体形态项:
255页:彩图;21x19cm
统一题名:
Exposure : from snapshots to great shots
个人责任者:
雷维尔 (Revell, Jeff)
个人次要责任者:
张婷
学科主题:
曝光-摄影技术-基本知识
中图法分类号:
J41
版本附注:
美国Peachpit Press授权出版 据原书第2版译出
提要文摘附注:
本书讲述了影响摄影曝光的各种因素, 包括光圈、快门、 ISO、镜头选择和景深, 以及其他摄影知识, 并使用了大量优质数码照片及其拍摄数据和注释。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
J41/188 A0778635   社会科学书库(七里坪新馆五楼)     可借 社会科学书库(七里坪新馆五楼)
J41/188 A0778636   社会科学书库(七里坪新馆五楼)     可借 社会科学书库(七里坪新馆五楼)
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J41/188 A0793092   社会科学书库(七里坪新馆五楼)     可借 社会科学书库(七里坪新馆五楼)
J41/188 A0793093   社会科学书库(七里坪新馆五楼)     借出-应还日期:2021-03-16 社会科学书库(七里坪新馆五楼)
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