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MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：2

题名/责任者:
半导体硅锗中的离子注入/(美)迈耶(J.W.Mayer等著 余怀之等译
出版发行项:
北京:科学出版社,1979
ISBN及定价:
15031.244/CNY0.97
载体形态项:
290页;19cm
并列正题名:
Ion implantation in semiconductors silicon and germanium
个人责任者:
迈耶 J.W. 著
个人责任者:
Mayer J.W. 著
个人次要责任者:
余怀之 译
团体主要责任者:
本社编
学科主题:
元素半导体-硅-离子注入
学科主题:
元素半导体-锗-离子注入
中图法分类号:
TN305.3
一般附注:
书名原文:Ion implantation in semiconductors silicon an
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