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MARC状态:已编 文献类型:中文图书 浏览次数:7

题名/责任者:
稀土高K栅介质材料/冀婷著
出版发行项:
北京:国防工业出版社,2014
ISBN及定价:
978-7-118-09405-3/CNY68.00
载体形态项:
167页:图;21cm
个人责任者:
冀婷
个人责任者:
徐闰
个人责任者:
朱燕艳
个人责任者:
方泽波
学科主题:
稀土金属-棚介质-介质材料
中图法分类号:
TG146.4
题名责任附注:
封面题责任者还有: 徐闰, 朱燕艳, 方泽波
书目附注:
有书目
提要文摘附注:
本书主要介绍稀土高K栅介质材料Er203、Tm203薄膜的生长、结构及其特性,重点介绍了利用分子束外延方法获得超薄高K氧化物薄膜的方法,并运用多种手段对薄膜的生长过程、结构、电学特性及能带排列等进行了研究。本书较为全面、系统地介绍了Er203、Tm2 03作为高K栅介质候选材料的制备及相关物理性质。
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
TG146.4/11 A0787689   Q601密集书库(七里坪) QL023164     可借 Q601密集书库(七里坪)
TG146.4/11 A0797100   Q601密集书库(七里坪) QL023165     可借 Q601密集书库(七里坪)
TG146.4/11 A0787687   自然科学书库(七里坪新馆六楼)     可借 自然科学书库(七里坪新馆六楼)
TG146.4/11 A0787688   自然科学书库(七里坪新馆六楼)     借出-应还日期:2024-12-23 自然科学书库(七里坪新馆六楼)
TG146.4/11 A0797099   自然科学书库(七里坪新馆六楼)     可借 自然科学书库(七里坪新馆六楼)
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