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- 题名/责任者:
- 磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能/肖剑荣著
- 出版发行项:
- 北京:中国水利水电出版社,2019.04
- ISBN及定价:
- 978-7-5170-7439-7/CNY57.00
- 载体形态项:
- 173页:图;24cm
- 个人责任者:
- 肖剑荣 著
- 学科主题:
- 铜-金属薄膜-氮化处理-结构分析
- 学科主题:
- 铜-金属薄膜-性能分析
- 中图法分类号:
- TF811
- 书目附注:
- 有书目 (第97-173页)
- 提要文摘附注:
- 磁控溅射是一种通用、成熟的薄膜制备工艺技术, 其制备工艺可调剂参数较多, 通过精细控制能够实现对薄膜结构的有效调控。本书研究了薄膜的工艺参数、薄膜结构与性能等之间的内在关系, 探讨了薄膜的电子输运、光学带隙、热稳定性的有关物理量的变化机制。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TF811/5 | A3030235 |  自然科学书库（七里坪新馆六楼）
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可借 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼） | |
| TF811/5 | A3030236 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼）
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可借 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼） | |
| TF811/5 | A3030237 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼）
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可借 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼） |
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