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MARC状态:已编 文献类型:中文图书 浏览次数:3

题名/责任者:
现代高纯气体:制取、分析与安全使用/尹恩华著
出版发行项:
北京:科学出版社,2015
ISBN及定价:
978-7-03-044967-2/CNY108.00
载体形态项:
336页:图;24cm
其它题名:
制取、分析与安全使用
个人责任者:
尹恩华
学科主题:
工业气体-化工生产
中图法分类号:
TQ116
书目附注:
有书目
提要文摘附注:
本书从高纯气体与集成电路等的关系说明气体纯度重要性。集成电路的制造包括成膜、刻蚀、掺杂和注入、平衡和清洗等, 无不需要各种高纯气体。高纯气体的制取是本书的核心, 在制取高纯气体方面, 本书介绍国内外最新文献, 包括: 吸附、精馏、离子液体、贮氢材料、钯扩散、熔体合金、膜分离、吸杂剂、多级离心和制备色谱等新技术。除了气相色谱是气体分析的主体外, 书中介绍最新光谱、质谱和纳米技术在高纯气体中杂质分析的应用。考虑高纯气体绝大部分都是易燃易爆和剧毒气体, 使用的安全措施尤为重要, 其内容还包括: 容器、介质、传感器和废气的节能减排。
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