MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：4
- 题名/责任者:
- 超大规模集成电路先进光刻理论与应用/韦亚一著
- 出版发行项:
- 北京:科学出版社,2016
- ISBN及定价:
- 978-7-03-048268-6 精装/CNY260.00
- 载体形态项:
- xv, 558页, [20] 页图版:图 (部分彩图);25cm
- 个人责任者:
- 韦亚一 著
- 学科主题:
- 超大规模集成电路-光刻系统-研究
- 中图法分类号:
- TN47
- 出版发行附注:
- 中国科学院科学出版基金资助出版
- 书目附注:
- 有书目 (第540-545页)
- 提要文摘附注:
- 本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺，内容直接取材于国际先进集成电路制造技术，为了保证先进性，特别侧重于32nm节点以下的技术。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TN47/16 | A0798406 |  Q601密集书库（七里坪）
QL050864 |
可借 | Q601密集书库（七里坪） | |
| TN47/16 | A0798407 | Q601密集书库（七里坪）
QL050670 |
可借 | Q601密集书库（七里坪） | |
| TN47/16 | A0799334 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼）
|
可借 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼） | |
| TN47/16 | A0799335 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼）
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可借 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼） | |
| TN47/16 | A0799336 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼）
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可借 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼） |
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