MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：5
- 题名/责任者:
- 《中子嬗变掺杂（NTD）硅单晶应用与性能》/北京可控硅技术应用研究所 编著
- 出版发行项:
- 北京:北京可控硅技术应用研究所,1980.5
- ISBN及定价:
- 平装/CNY2
- 载体形态项:
- 56页;16开
- 个人责任者:
- 北京可控硅技术应用研究所 编著 著
- 中图法分类号:
- TN34
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TN34/28 | B1007165 |  七里坪旧书库（B103）
T0443051 |
可借 | 七里坪旧书库（B103） |
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