MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：5
- 题名/责任者:
- 分子印迹技术及应用/谭天伟编著
- 出版发行项:
- 北京:化学工业出版社,2010
- ISBN及定价:
- 978-7-122-08005-9 精装/CNY68.00
- 载体形态项:
- 305页:图;26cm
- 丛编项:
- 超分子科学丛书
- 个人责任者:
- 谭天伟 编著
- 学科主题:
- 高聚物-制备
- 学科主题:
- 高聚物
- 中图法分类号:
- O63
- 一般附注:
- “十一五”国家重点图书 国家科学技术学术著作出版基金资助出版
- 提要文摘附注:
- 本书内容包括分子印迹技术的基本概念、作用机制与研究模型，分子印迹的研究方法、分析分离技术，表面分子印迹，分子印迹聚合物的制备及其影响因素等，并展望了分子印迹技术领域的发展趋势。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| O63/43 | A4132762 |  七里坪八楼开架阅览室
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阅览 | 七里坪八楼开架阅览室 | |
| O63/43 | A4132763 | A自科5楼(李子园校区)
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可借 | A自科5楼(李子园校区) | |
| O63/43 | A4132764 | A自科5楼(李子园校区)
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可借 | A自科5楼(李子园校区) | |
| O63/43 | A4132765 | A自科5楼(李子园校区)
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可借 | A自科5楼(李子园校区) |
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