MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：1
- 题名/责任者:
- 最好的UI设计师:每一次思考, 都是对自己更好的完善/颜伟著
- 出版发行项:
- 北京:电子工业出版社,2018
- ISBN及定价:
- 978-7-121-33641-6/CNY79.00
- 载体形态项:
- 210页:彩图;24cm
- 其它题名:
- 每一次思考, 都是对自己更好的完善
- 个人责任者:
- 颜伟 著
- 学科主题:
- 人机界面-程序设计
- 中图法分类号:
- TP311.1
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 本书向大家揭示了一些看似平常、实则无比重要的事。了解并掌握相关知识，不仅能获得更多抵达目标的方式，还能让“新人”在未来的工作更加顺畅，让“老人”突破原本难以逾越的职业“天花板”。书中还讲述了一些具有普遍性的知识和技能。这些知识和技能并非是一时性的，可能再过5年、10年，依然会起到很大的作用。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TP311.1/150 | A3021182 |  自然科学书库（七里坪新馆六楼）
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可借 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼） | |
| TP311.1/150 | A3021183 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼）
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可借 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼） | |
| TP311.1/150 | A3021184 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼）
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可借 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼） |
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