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MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：6

题名/责任者:
光刻/上海无线电十七厂编著
出版发行项:
北京:上海人民出版社,1971
ISBN及定价:
/￥0.16
载体形态项:
72页d32开
丛编项:
半导体器件平面工艺
团体责任者:
上海无线电十七厂 编著
中图法分类号:
TN305.7
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TN305.7/1 B0042854   L6楼密集书库（李子园） LL009617     可借 L6楼密集书库（李子园）
TN305.7/1 B0042855   L6楼密集书库（李子园） LL009616     可借 L6楼密集书库（李子园）
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