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MARC状态:已编 文献类型:中文图书 浏览次数:5

题名/责任者:
场地与景观设计图解/(美) 戴维·A·戴维斯, (美) 西奥多·D·沃克著 蔡红译
出版发行项:
北京:中国建筑工业出版社,2010
ISBN及定价:
978-7-112-11863-2/CNY69.00
载体形态项:
264页:图 (部分彩图);19x26cm
统一题名:
Plan graphics
个人责任者:
戴维斯 (Davis, David A.)
个人责任者:
沃克 (Walker, Theodore D.)
个人次要责任者:
蔡红
学科主题:
建筑制图-平面图-图解
中图法分类号:
TU204
版本附注:
美国John Wiley & Sons, Inc.授权出版 据原书第5版译出
相关题名附注:
原文名取自封面
提要文摘附注:
本书包含了涉及进程各阶段的图像表现方式,手绘渲染与计算机技术相结合,内容涉及文字、彩图、场地分析、方案图、施工文件及精美的渲染图、剖面图和立面图。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
TU204/191 A0744591   自然科学书库(七里坪新馆六楼)     可借 自然科学书库(七里坪新馆六楼)
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