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MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：1

题名/责任者:
半导体硅锗中的离子注入/(美)迈耶(J.W.Mayer等著 余怀之等译
出版发行项:
北京:科学出版社,1979
ISBN及定价:
15031.244/CNY0.97
载体形态项:
290页;19cm
并列正题名:
Ion implantation in semiconductors silicon and germanium
个人责任者:
迈耶 J.W. 著
个人责任者:
Mayer J.W. 著
个人次要责任者:
余怀之 译
团体主要责任者:
本社编
学科主题:
元素半导体-硅-离子注入
学科主题:
元素半导体-锗-离子注入
中图法分类号:
TN305.3
一般附注:
书名原文:Ion implantation in semiconductors silicon an
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
TN305.3/3 MJ277867   B102密集书库（七里坪） QB248652     新书：正在上架 B102密集书库（七里坪）
TN305.3/3 MJ277926   B102密集书库（七里坪） QB248711     新书：正在上架 B102密集书库（七里坪）
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