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- 题名/责任者:
- 多弧离子镀沉积过程的计算机模拟/赵时璐著
- 出版发行项:
- 北京:冶金工业出版社,2013
- ISBN及定价:
- 978-7-5024-6227-7/CNY26.00
- 载体形态项:
- 232页;21cm
- 个人责任者:
- 赵时璐 著
- 学科主题:
- 离子镀-镀膜-沉积-计算机模拟
- 学科主题:
- 离子镀
- 学科主题:
- 镀膜
- 学科主题:
- 沉积
- 学科主题:
- 计算机模拟
- 中图法分类号:
- TG174.4
- 提要文摘附注:
- 本书系统介绍了多弧离子镀沉积过程的计算机模拟。全书共分13章，主要内容包括：绪论；真空镀膜技术的介绍；多弧离子镀沉积过程模拟的理论基础；多弧离子镀物理过程的分析；计算机模拟技术；数学模型的建立；程序的编制；模拟的结果；模拟结果的讨论与验证；6个模块的主要程序代码等。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TG174.4/3 | A4159321 |  七里坪旧书库（B103）
T0222964 |
可借 | 七里坪旧书库（B103） | |
| TG174.4/3 | A4159322 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼）
|
可借 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼） | |
| TG174.4/3 | A4159323 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼）
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可借 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼） | |
| TG174.4/3 | A4159324 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼）
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可借 | 自然科学书库（七里坪新馆六楼） |
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